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mos管的金属氧化物是什么?
mos管结构示意图中标出的金属氧化物膜位于上边部位,这个膜是绝缘的,用来电气隔离,使得栅极只能形成电场,不能通过直流电,因此是用电压控制的。在直流电气上,栅极和源漏极是断路。不难理解,这个膜越薄:电场作用越好、坎压越小、相同栅极电压时导通能力越强。坏处是:越容易击穿、工艺制作难度越大而价格越贵。
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mosfet(场效应管)的主要参数:
1.开启电压vt
·开启电压(又称阈值电压):使得源极s和漏极d之间开始形成导电沟道所需的栅极电压;
·标准的n沟道mos管,vt约为3~6v;·通过工艺上的改进,高mos管,可以使mos管的vt值降到2~3v。
2. 直流输入电阻rgs
·即在栅源极之间加的电压与栅极电流之比
·这一特性有时以流过栅极的栅流表示
·mos管的rgs可以很容易地超过1010ω。
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mos管(mosfet/场效应管)的主要参数:
6. 导通电阻ron
·导通电阻ron说明了vds对id的影响 ,24n50高mos管,是漏极特性某一点切线的斜率的倒数
·在饱和区,100n10高mos管,id几乎不随vds改变,ron的数值很大,25n120高mos管,一般在几十千欧到几百千欧之间
·由于在数字电路中 ,mos管导通时经常工作在vds=0的状态下,所以这时的导通电阻ron可用---的ron来近似
·对一般的mos管而言,ron的数值在几百欧以内
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